Descrizione del prodotto
Sistema della metallizzazione sotto vuoto dei monili IPG è ampiamente usato in monili, l'industria della vigilanza. La tecnologia Integrated tre del magnetron di CC che polverizza, polverizzante a frequenza media ed evaporazione dello ione dell'arco elettrico, unendo il lineare ionizza il rivestimento diagonale di impulso e di sorgente per assottigliare le particelle di deposito. La varia prestazione della pellicola è migliorata e può ricoprire la pellicola della lega, la pellicola composta, pellicola composita a più strati sulla superficie di metallo così come il metalloide. Dopo gli anni di ricerca & sviluppo dedicata dal nostro assistente tecnico, attraverso lo ione unico dell'arco elettrico del catodo ed i sistemi unbalanced del magnetron, sviluppiamo un pacchetto della serie di PROPOWER di sistema di controllo automatico del calcolatore. Fa il rivestimento filmare la densità di adesione così come buona consistenza complessa e risolve i problemi della complessità del funzionamento manuale, delle contraddizioni di colore della pellicola, ecc.
Caratteristica:
1. Il principio di magnetron che polverizza è basato sulla teoria di scarico di incandescenza del catodo, ampliante il campo magnetico della superficie del catodo vicino alla superficie del pezzo in lavorazione, ha aumentato il tasso ionizzato di polverizzazione degli atomi. Mantiene il fragile del magnetron che polverizza ed ha aumentato la lucentezza
2. La prestazione della sorgente di evaporazione del plasma dell'arco elettrico è certa, può funzionare nell'ambito del 30A corrente quando ottimizzare il rivestimento del campo magnetico della struttura e del catodo e della diffusione atomica dei prodotti dell'interfaccia della pellicola e del substrato del rivestimento, più la caratteristica del deposito aiutato del fascio ionico
Industria applicata: La strumentazione è ampiamente usata in orologi di IPG, vigilanze ed orologi di IPS, IP delle pistole, coperture del telefono mobile, hardware, articoli sanitari, taglierine, strumenti antifrizioni, dadi e muffa, ecc. Può ricoprire lo stagno, TiCN, CrN, TiALN, TiNbu, TiCrN, lo ZRN ed i vari generi di pellicola dei diamanti (DLC).
| Modo Dimensione | JTL-900 | JTL-1100 | JTL-1250 |
| 900*1000mm | 1100*1000mm | 1250*1100mm | |
| Modo del rivestimento e confirguration principale | Sei obiettivi dell'multi-arco + un insieme della colonna designa + un insieme come bersaglio degli obiettivi piani di polverizzazione del magnetron di rettangolo | Sei obiettivi dell'multi-arco + un accoppiamento degli obiettivi gemellare di polverizzazione del magnetron (MF) | Dodici obiettivi dell'multi-arco + due insiemi del magnetron piano di rettangolo che polverizza targets+ un gli accoppiamenti degli obiettivi gemellare di polverizzazione del magnetron (MF) |
| Fonte di energia | Potere dell'arco elettrico, potere del magnetron di CC, potere del magnetron di MF, potere del filamento, potere di impulso, sorgente ionizzata lineare | ||
| Controllo di gas trattato | Flussometro di qualità + valvola di ceramica di elettromagnetismo | ||
| Struttura dell'alloggiamento di vuoto | Verticale scegliere il portello (laterale), il postposition del sistema di pompaggio, il doppio raffreddamento ad acqua | ||
| Vacuum il sistema | Pompa della pompa +Mechanical della pompa +Roots della molecola (PA di 5.0*10 -5) Pompa della pompa +Mechanical della pompa di diffusione +Roots (PA di 5.0*10 -4) | ||
| Temperatura di cottura del pezzo in lavorazione | Temperatura normale a controllo di PID di 350 centi-gradi, riscaldamento di radiazione | ||
| Modo di movimento del pezzo in lavorazione | Controllo di frequenza pubblico di rotazione: 0-20 rotazione al minuto | ||
| Modo di misura | Calibro di vuoto composito della visualizzazione di numero: da atmosfera a PA di 1.0*10 -5 | ||
| Modo di controllo | Manuale/scelta di HMI/PC + di Automatic/PC/PLC quattro del modo di controllo | ||
| Osservazione | Possiamo progettare la dimensione della strumentazione secondo il requisito speciale di tecnica del cliente | ||
